ЗАХИСТ ФУНКЦІОНАЛЬНИХ ГРУП Сучасні методи органічного синтезу
ОН-група: силільний захист 2
ОН-група: силільний захист Постановка Зняття ØКислоти ØЛуги (TBDMS, TBDPS, TIPS – відносно стійкі) ØДжерела фторид-іону 3
ОН-група: ацильний захист 4
ОН-група: карбаматний захист 5
ОН-група: карбаматний захист Зняття ØМетил карбамат: K 2 CO 3, Me. OH ØFmoc: Et 3 N чи піперидин ØAlloc: Pd 2(dba)3, dppe, Et 2 NH, THF ØTroc: Zn, Ac. OH ØTeoc: TBAF ØCbz: H 2, Pd-C ØBoc: TFA чи HCl–діоксан 6
ОН-група: ацетальний захист 7
ОН-група: ацетальний захист Постановка Зняття Ø Кислоти Ø Залежно від алкільного залишку Ø PMBM: DDQ Ø MTM: Hg. Cl 2 8
ОН-група: етерний захист Постановка Зняття ØNa. H, alkyl bromide Ø Аліл: Pd(Ph 3 P)4, RSO 2 Na Ø Alkyl-OC(=NH)CCl 3, H+ Ø Бензил: H 2, Pd-C Ø Тритил: Ph 3 CCl, DMAP Ø PMB: DDQ Ø Тритил: TFA 9
Захист 1, 2 - та 1, 3 -діолів 10
Захист 1, 2 - та 1, 3 -діолів Постановка 11
Захист фенолів Постановка ØMe. I, K 2 CO 3 ØDiazomethane ØIsobutylene, CF 3 SO 3 H Øt-Butyl halide 12 Зняття ØМетил: Me 3 Si. I, CHCl 3, 25 -50 °C. Ø Et. SNa, DMF, reflux Øтрет-Бутил: TFA
Захист альдегідів/кетонів Зняття дитіоацеталів/кеталів ØHg(Cl. O 4)2, Me. OH. ØMCPBA Ø(CF 3 CO 2)2 IPh 13
Захист карбоксильної групи 14
Захист карбоксильної групи Постановка Зняття ØМетил: Li. OH, Me. OH, 5 °C або Ph. SH, TEA. Øтрет-Бутил ØАліл ØБензил ØPMB ØФеніл: p. H = 10. 5. 15
Захист аміногрупи ØМетил ØТозил 16
Захист інших груп Алкіни ØСилільний захист Постановка: ацетиленід, R 3 Si. Cl/R 3 Si. OTf Зняття: TBAF, у випадку TMS – також луги Боронові кислоти ØДіольний захист ØN-метиламінодиоцтова кислота 17
Захист інших груп Дієни ØFe(CO)3 – захист Постановка: Fe 2(CO)9 Зняття: CAN Фосфати ØМетильний захист Ø 2 -Ціаноетильний захист 18