Скачать презентацию Статистика электронов и дырок в полупроводниках 1 Плотность Скачать презентацию Статистика электронов и дырок в полупроводниках 1 Плотность

Лекция11&12 Стат_контр_Поверхность-БШ-p-n.ppt

  • Количество слайдов: 36

Статистика электронов и дырок в полупроводниках 1. Плотность состояний : написать выражения и нарисовать Статистика электронов и дырок в полупроводниках 1. Плотность состояний : написать выражения и нарисовать графики зависимостей плотности состояний в зонах от энергии электронов. 2. Функция распределения Ферми: написать выражение и нарисовать графики. 3. Выразить концентрацию электронов в зоне проводимости через уровень Ферми (для невырожденного случая). 4. Чему равно произведение концентрации электронов на концентрацию дырок (для невырожденного случая)? 5. Выразить концентрацию электронов в зоне проводимости через уровень Ферми для вырожденного случая. 6. Нарисовать график температурной зависимости концентрации электронов в донорном полупроводнике.

Поверхностные и контактные явления в полупроводниках 1. Поверхность металлов и полупроводников • • Атомная Поверхностные и контактные явления в полупроводниках 1. Поверхность металлов и полупроводников • • Атомная структура поверхности кристалла Барьер для электронов на поверхности. Работа выхода. Поверхностные электронные состояния. Изгиб зон, распределение заряда, поля и потенциала вблизи поверхности. 2. Контакт металл-полупроводник (барьер Шоттки) • Энергетическая диаграмма • Вольт-амперная характеристика 3. Электрон-дырочный (p-n) переход • Энергетическая диаграмма • Вольт-амперная характеристика • Инжекция неосновных носителей заряда • Емкость p-n перехода

Атомно-гладкие поверхности Идеально гладкая сингулярная грань Шероховатая поверхность Среднеквадратичная шероховатость: Вицинальные террасированные поверхности Атомно-гладкие Атомно-гладкие поверхности Идеально гладкая сингулярная грань Шероховатая поверхность Среднеквадратичная шероховатость: Вицинальные террасированные поверхности Атомно-гладкие террасы, разделённые прямолинейными моноатомными ступенями Вид сверху a 0 – постоянная решетки; – угол разориентации относительно сингулярной грани; b=a 0·ctg – ширина террас 4

Как приготовить поверхность с атомно-гладкими террасами, разделенными моноатомными ступенями? Нагреть до высокой температуры – Как приготовить поверхность с атомно-гладкими террасами, разделенными моноатомными ступенями? Нагреть до высокой температуры – позволить атомам диффундировать! 3 мкм Изображения поверхности Ga. As, полученные атомно-силовым микроскопом до и после нагрева в равновесных условиях T=575 C 2 часа T=650 C 2 часа Исходная поверхность V. L. Alperovich, I. O. Akhundov, N. S. Rudaya, D. V. Sheglov, E. E. Rodyakina, A. V. Latyshev, and A. S. Terekhov, Appl. Phys. Lett. 94, 101908 (2009)

Атомная структура поверхности Ga. As(001) Структура Ga. As(001) 1. Симметрия поверхности Ga. As(001) ниже, Атомная структура поверхности Ga. As(001) Структура Ga. As(001) 1. Симметрия поверхности Ga. As(001) ниже, чем объёма: в объёме есть ось 4 порядка, а на поверхности – только 2 порядка. 2. Соседние пары атомов на поверхности (001) взаимно насыщают «болтающиеся» орбитали и образуют димеры. 3. Образуются сложные реконструкции (m x n), где числа m и n – кратности увеличения периода поверхностной ячейки по отношению к объемной. Вид сверху

Атомная структура поверхности Ga. As(001) Нереконструированная поверхность Реконструированная поверхность Ga. As(001), вид сверху на Атомная структура поверхности Ga. As(001) Нереконструированная поверхность Реконструированная поверхность Ga. As(001), вид сверху на плоскость (001) Ga. As(001)-(2 x 4)/c(2 x 8) димер

Атомные реконструкции поверхности Ga. As(001) картины дифракции электронов As-rich (1 x 1) Ga-rich (2 Атомные реконструкции поверхности Ga. As(001) картины дифракции электронов As-rich (1 x 1) Ga-rich (2 x 4)/c(2 x 8) 420°С (4 x 2)/c(8 x 2) (3 x 6)/(2 x 6) 480°С 550°С (4 x 6) 580°С O. E. Tereshchenko, S. I. Chikichev, A. S. Terekhov, J. Vac. Sci. Tech. A 17 (1999) Увеличение периода поверхностной кристаллической ячейки соответствует уменьшению периода обратной решетки (и уменьшению расстояния между дифракционными рефлексами)

Профиль электронной плотности у поверхности металла Профиль электронной плотности у поверхности металла

Поверхностные электронные состояния Поверхностные электронные состояния

Поверхностные состояния в полупроводниках Поверхностные состояния в полупроводниках

Зонная диаграмма поверхности полупроводника Зонная диаграмма поверхности полупроводника

Обратная ветвь идет по-другому: выпрямления нет! Обратная ветвь идет по-другому: выпрямления нет!

Туннельный диод: зонная диаграмма в равновесии (зона обеднения) Туннельный диод: зонная диаграмма в равновесии (зона обеднения)

Вольт-амперные характеристики туннельного диода Вольт-амперные характеристики туннельного диода

Объяснение вольт-амперной характеристики туннельного диода Обратное смещение Равновесие V=0 Прямое смещение Вблизи максимума Вблизи Объяснение вольт-амперной характеристики туннельного диода Обратное смещение Равновесие V=0 Прямое смещение Вблизи максимума Вблизи минимума Доминирует термоток

Экскурсия 2 декабря (четверг): 10: 00 Милехин Александр Германович, комбинационное рассеяние света НОК НГУ Экскурсия 2 декабря (четверг): 10: 00 Милехин Александр Германович, комбинационное рассеяние света НОК НГУ

Экскурсии 11 ноября (четверг): 10: 00 Погосов Артур Григорьевич, транспорт в низкоразмерных структурах. ЛТК Экскурсии 11 ноября (четверг): 10: 00 Погосов Артур Григорьевич, транспорт в низкоразмерных структурах. ЛТК (сбор в фойе ЛТК) 15: 00 Шкляев Александр Андреевич, вакуумный сканирующий туннельный микроскоп (СТМ). НОЦ НГУ, к. 34