Отчет о учебно-исследовательской работе: Исследование методов нанесения покрытий в магнетронном и высокочастотном плазменных разрядах Студент: Руководитель: проф. , д. ф. -м. н. Консультанты: доц. , к. ф. -м. н. студент Рябцев С. А. Писарев А. А. Гаспарян Ю. М. Бернт Д. Д. Зибров М. С.
ВВЕДЕНИЕ ØЦель: нанесение тонких покрытий (электронная техника, полупроводниковое производство) ØТребования: однородность плазмы, высокая плотность плазмы и высокая скорость обработки, высокая чистота процесса ØРешение: ионно-плазменная обработка с использованием резонансных явлений в ВЧ и СВЧ плазме 3
ВВЕДЕНИЕ ØУстройства на ЭЦР + – однородная плазма в большом объеме при 10 -2 Па сложность, неравномерная обработка подложек большого диаметра ØГеликонные источники плазмы + – низкая стоимость при сравнимых плотностях плазмы трудности с получением однородной плазмы ØTCP (ICP) источники плазмы + + возможность травления материалов с высоким разрешением осаждение слоев из парогазовых смесей 4
TCP технология Основа – процесс ударной ионизации молекул и атомов газа электронами, ускоренными в высокочастотном электромагнитном поле Схема установки 1 – вакуумная камера 2 – подложкодержатель 3 – подложка 4 – источник на индуктивносвязанной плазме 5 – ВЧ генераторы 5
Магнетрон 6
Магнетрон 7
Эксперименты на установке «Магнетрон» Порядок проведения экспериментов: 1) Травление образца (ионами аргона из плазмы магнетронного или тлеющего разряда) 2) Очистка катода 3) Осаждение пленки 8
Эксперименты на установке «Магнетрон» 3 серии экспериментов: 1) без потенциала смещения 2) первая половина – без потенциала смещения, затем подача 300 В 3) подача потенциалов 0 В и 300 В циклами 1) 2) 3) 9
Тестирование полученных образцов «Скотч» - тест 10
Анализ полученных образцов Ø Тест на воздействие 30% водного раствора KOH 11
Анализ полученных образцов Ø Разрыв пленок на границе образца 12
Механизм разрушения пленки KOH OH ПЛЕНКА ПОДЛОЖКА (Al) Н ОКСИД АЛЮМИНИЯ 13
ВЫВОДЫ üВ ходе работы были изучены особенности и преимущества TCP технологии, интересные с точки зрения использования ее для модификации поверхности и нанесения покрытий üПроизведено ознакомление с устройством и принципом работы установки «МР-1» и порядком проведения экспериментов по нанесению тонких покрытий на подложку методом физического осаждения их из плазмы магнетронного разряда üПроведено несколько экспериментов по нанесению металлических защитных пленок на алюминиевую подложку üОбразцы, полученные в ходе экспериментов, были подвергнуты тестам на воздействие щелочи и изучены под стереомикроскопом üВыявлены недостаточные защитные свойства наносимых металлических покрытий и на основании экспериментальных данных были выдвинуты предположения о характере процесса разрушения защитного слоя под действием щелочной среды СПАСИБО ЗА ВНИМАНИЕ 14
15
Скачать презентацию Отчет о учебно-исследовательской работе Исследование методов нанесения покрытий
Рябцев.pptx