МЕТОДЫ ЛАЗЕРНОГО ПОЛУЧЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК Выполнил: Киряков А. Н. Фт-490603 Руководитель: Ремпель А. А. Екатеринбург 2013
СОДЕРЖАНИЕ • Установка осаждения пленок • Импульсные лазерные испарители • Лазерно-дуговые испарители
УСТАНОВКА ОСАЖДЕНИЯ ПЛЕНОК 1 - твердотельный лазер с блоком питания; 2 - оптическая система; 3 - сверхвысоковакуумная установка; 4 - источник дополнительной энергии 1 - лазер; 2 - фокусирующая линза; 3 - сменные мишени; 4 - подложка с нагревателем; 5 - система контроля за процессом; 6 - система сканирования Оптимальное значение интенсивности лазера, это значение при котором за один импульс можно нанести мономолекулярный слой испаренного вещества на подложку.
ИМПУЛЬСНЫЕ ЛАЗЕРНЫЕ ИСПАРИТЕЛИ Данный способ позволяет: • Варьировать величину энергопотока в пределах от 108 до 1016 Вт/м 2 • Изменять длительность его воздействия от непрерывного до величины 10 -10 с 1 - испаряемый материал; 2 - тигель; 3 - СО 2 -лазер - источник нагрева; 4 - оптический ввод из Ga. As; 5 - поворотное зеркало; 6 - сменное вращающееся сферическое зеркало; 7 - экран; 8 - подложка; 9 - вакуумная камера
ЛАЗЕРНО-ДУГОВЫЕ ИСПАРИТЕЛИ Особенности: • Дополнительная энергия в виде дугового разряда между мишенью и электродом. • Многократно большие скорости испарения. • Можно использовать при меньших лазерных энергиях (это позволит сохранить оптику) 1 - вакуумная дуга в парах испаряемого материала; 2 - пары испаряемого материала; 3 - подложка; 4 - мишень; 5 лазерный луч; 6 - электрод поджига; 7 система синхронизации лазерного и дугового импульсов
ВЫВОДЫ o Особенностью метода получения пленок с помощью лазерного o испарения, является высокая импульсная скорость напыления, которая примерно на 3 порядка превышает скорость термического напыления и на 4 -5 порядков - ионно-плазменного. Недостаток лазерных систем испарения - малые скорости нанесения пленок на подложку - может быть ликвидирован совместным использованием дугового испарителя и лазерного излучения. При этом лазер несет функцию управляющей и стимулирующей системы, а дуговой разряд обеспечивает основную энергетику процесса.
Спасибо за внимание!