Лекция 9 Особенности формирования областей исток-сток МОПТ
![Структура областей исток-сток наноразмерного МОПТ [1]](https://present5.com/presentation/254858120_451573763/image-2.jpg "Структура областей исток-сток наноразмерного МОПТ [1]")
Структура областей исток-сток наноразмерного МОПТ [1]
![Эффект образования горячих носителей [2]](https://present5.com/presentation/254858120_451573763/image-3.jpg "Эффект образования горячих носителей [2]")
Эффект образования горячих носителей [2]
Причины и следствия образования горячих носителей • Lк Nп Xопз E УИ ГН Ин Uп ВЖ
![Механизм образования ловушек для горячих носителей [1]](https://present5.com/presentation/254858120_451573763/image-5.jpg "Механизм образования ловушек для горячих носителей [1]")
Механизм образования ловушек для горячих носителей [1]
![Влияние горячих носителей на ВАХ МОПТ до после Стресс [1]](https://present5.com/presentation/254858120_451573763/image-6.jpg "Влияние горячих носителей на ВАХ МОПТ до после Стресс [1]")
Влияние горячих носителей на ВАХ МОПТ до после Стресс [1]
![LDD структура стока Спейсер Затвор Подзатворный окисел [2] Сток](https://present5.com/presentation/254858120_451573763/image-7.jpg "LDD структура стока Спейсер Затвор Подзатворный окисел [2] Сток")
LDD структура стока Спейсер Затвор Подзатворный окисел [2] Сток
![Влияние LDD структуры на распределение электрического поля [2] Расстояние от поверхности, мкм](https://present5.com/presentation/254858120_451573763/image-8.jpg "Влияние LDD структуры на распределение электрического поля [2] Расстояние от поверхности, мкм")
Влияние LDD структуры на распределение электрического поля [2] Расстояние от поверхности, мкм
Ток в подложку, А/см 2 Время жизни, годы Влияние дозы имплантации примеси для LDD на время жизни и ток в подложку МОПТ Область cуществования LDD формирется ОПЗ Доза сужается [2]
![Маршрут формирования МОПТ с LDD структурой [2]](https://present5.com/presentation/254858120_451573763/image-10.jpg "Маршрут формирования МОПТ с LDD структурой [2]")
Маршрут формирования МОПТ с LDD структурой [2]
![Изменение глубины LDD структуры от технологического уровня [3]](https://present5.com/presentation/254858120_451573763/image-11.jpg "Изменение глубины LDD структуры от технологического уровня [3]")
Изменение глубины LDD структуры от технологического уровня [3]
![Зависимость тока насыщения МОПТ от длины канала и уровня легирования LDD структуры [3]](https://present5.com/presentation/254858120_451573763/image-12.jpg "Зависимость тока насыщения МОПТ от длины канала и уровня легирования LDD структуры [3]")
Зависимость тока насыщения МОПТ от длины канала и уровня легирования LDD структуры [3]
![Влияние перекрытия LDD структуры электродом затвора на ток насыщения МОПТ LDD [3]](https://present5.com/presentation/254858120_451573763/image-13.jpg "Влияние перекрытия LDD структуры электродом затвора на ток насыщения МОПТ LDD [3]")
Влияние перекрытия LDD структуры электродом затвора на ток насыщения МОПТ LDD [3]
![Факторы, влияющие на величину сопротивления LDD стока МОПТ [2]](https://present5.com/presentation/254858120_451573763/image-14.jpg "Факторы, влияющие на величину сопротивления LDD стока МОПТ [2]")
Факторы, влияющие на величину сопротивления LDD стока МОПТ [2]
![Эффект обеднения LDD - структуры Отрицательный заряд Обеднение области п-типа [2]](https://present5.com/presentation/254858120_451573763/image-15.jpg "Эффект обеднения LDD - структуры Отрицательный заряд Обеднение области п-типа [2]")
Эффект обеднения LDD - структуры Отрицательный заряд Обеднение области п-типа [2]
![Конструктивные варианты LDD структуры Поверхностный LDD Скрытый LDD Градиентно-скрытый LDD [2]](https://present5.com/presentation/254858120_451573763/image-16.jpg "Конструктивные варианты LDD структуры Поверхностный LDD Скрытый LDD Градиентно-скрытый LDD [2]")
Конструктивные варианты LDD структуры Поверхностный LDD Скрытый LDD Градиентно-скрытый LDD [2]
Деградация крутизны Зависимость степени деградации крутизны МОПТ от времени испытания для различных LDD Поверхностный LDD Скрытый LDD Градиентноскрытый LDD [2] Время испытаний, час
Маршрут изготовления градиентно-профильной LDD структуры Иония имплантация мышьяка ( малая доза ) Ионная имплантация фосфора Формирование спейсеров Ионная имплантация мышьяка ( большая доза и энергия ) [2]
![Маршрут формирования LDD КМОП ИС с двумя карманами [2]](https://present5.com/presentation/254858120_451573763/image-19.jpg "Маршрут формирования LDD КМОП ИС с двумя карманами [2]")
Маршрут формирования LDD КМОП ИС с двумя карманами [2]
Влияние концентрации примеси и температуры на подвижность носителей
![Гало-области МОПТ с гало-областью Маршрут формирования МОПТ с локальной гало-областью [2]](https://present5.com/presentation/254858120_451573763/image-21.jpg "Гало-области МОПТ с гало-областью Маршрут формирования МОПТ с локальной гало-областью [2]")
Гало-области МОПТ с гало-областью Маршрут формирования МОПТ с локальной гало-областью [2]
![Влияние режимов формирования гало-области на изменение порогового напряжения МОПТ [1]](https://present5.com/presentation/254858120_451573763/image-22.jpg "Влияние режимов формирования гало-области на изменение порогового напряжения МОПТ [1]")
Влияние режимов формирования гало-области на изменение порогового напряжения МОПТ [1]
![Влияние гало-области на напряжение смыкания ОПЗ исток-сток [1]](https://present5.com/presentation/254858120_451573763/image-23.jpg "Влияние гало-области на напряжение смыкания ОПЗ исток-сток [1]")
Влияние гало-области на напряжение смыкания ОПЗ исток-сток [1]
![Влияние режима формирования гало-области на подпороговый ток МОПТ [1]](https://present5.com/presentation/254858120_451573763/image-24.jpg "Влияние режима формирования гало-области на подпороговый ток МОПТ [1]")
Влияние режима формирования гало-области на подпороговый ток МОПТ [1]
Зависимость тока выключения от тока насыщения для двух типов МОПТ 1 – с гало-областью 2 – без гало-области [1]
Скачать презентацию Лекция 9 Особенности формирования областей исток-сток МОПТ
Лекция 9.pptx