Скачать презентацию Лекция 1 Структура твёрдых тел Кристаллическая решетка Коэффициенты Скачать презентацию Лекция 1 Структура твёрдых тел Кристаллическая решетка Коэффициенты

Лекция 1 (20.3.2013).pptx

  • Количество слайдов: 20

Лекция 1 Структура твёрдых тел Кристаллическая решетка Коэффициенты Миллера Дефекты в реальных кристаллах лектор: Лекция 1 Структура твёрдых тел Кристаллическая решетка Коэффициенты Миллера Дефекты в реальных кристаллах лектор: Колосько Анатолий Григорьевич ( agkolosko@mail. ru )

Потенциал Леннарда-Джонса Зависимость потенциальной энергии взаимодействия атомов (F) от расстояния между ними (r) имеет Потенциал Леннарда-Джонса Зависимость потенциальной энергии взаимодействия атомов (F) от расстояния между ними (r) имеет минимум, соответствующий положению равновесия: ε – глубина потенциальной ямы, σ – расстояние, на котором U = 0

Расположение частиц в жидкостях и твердых кристаллических телах штриховой линией очерчены ячейки, ограничивающие свободное Расположение частиц в жидкостях и твердых кристаллических телах штриховой линией очерчены ячейки, ограничивающие свободное движение частицы

Структура идеальных кристаллов Кристалл – твердое тело, в котором атомы образуют трехмерно-периодическую пространственную укладку, Структура идеальных кристаллов Кристалл – твердое тело, в котором атомы образуют трехмерно-периодическую пространственную укладку, т. н. кристаллическую решётку. Периодически повторяющееся размещение частиц в кристалле можно получить трансляцией его узлов – операцией их параллельного перемещения вдоль трех осей: х, у, z. а, b, с – векторы трансляции. Их величины – расстояния между соседними атомами – периоды трансляции или постоянная решётки. Параллелепипед, построенный из а, b, с – называется элементарной ячейкой, а его вершины называются узлами решётки.

Кристаллографические плоскости Любой узел решётки идеального кристалла может быть описан заданием радиус вектора, который Кристаллографические плоскости Любой узел решётки идеального кристалла может быть описан заданием радиус вектора, который записывается в виде трёх чисел – индексов узла [[mnp]] : r = m ∙ а + n ∙ b + р ∙ с Плоскость, проходящая через узлы кристаллической решетки, называется кристаллографической плоскостью. Для задания кристаллографической плоскости используют индексы Миллера [h, k, l] – координаты плоскости: Пусть плоскость проходит через три узла, лежащие на осях: А = n 1 ∙ а, B = n 2 ∙ b, C = n 3 ∙ с тогда h = R/n 1 k = R/n 2 l = R/n 3 где R – наименьшее кратное для n 1 , n 2 , n 3 Семейство параллельных плоскостей [h, k, l] отсекают на x, y, z отрезки длиной (a/h), (b/k), (c/l), поэтому между плоскостями: dhlk = √((a/h)2 + (b/k)2 + (c/l)2)

Примеры задания плоскостей, диффракция Брэгга Дифракционные методы позволяют определить атомарные плоскости в кристалле, то Примеры задания плоскостей, диффракция Брэгга Дифракционные методы позволяют определить атомарные плоскости в кристалле, то есть узнать его структуру.

Типы кристаллических ячеек и решёток Большинство металлов имеет кристаллические решётки одного из трёх типов: Типы кристаллических ячеек и решёток Большинство металлов имеет кристаллические решётки одного из трёх типов: кубическую объёмно-центрированную, кубическую гранецентрированную и, так называемую, плотную гексагональную.

Кубическая и гексагональная упаковки Алмаз (кубическая упаковка) Графит (гексагональная упаковка) Число ближайших соседей (лигандов) Кубическая и гексагональная упаковки Алмаз (кубическая упаковка) Графит (гексагональная упаковка) Число ближайших соседей (лигандов) у атома называют координационным числом, причём в моноатомной структуре учитываются атомы того же сорта, а в полиатомной – обязательно другого. Координационный полиэдр – геометрия расположения лигандов.

Плотная шаровая упаковка Характерна для молекулярных кристаллов. Атомы в ней у выше- и нижележащих Плотная шаровая упаковка Характерна для молекулярных кристаллов. Атомы в ней у выше- и нижележащих слоев располагаются друг между другом, максимально перекрывая пустоты, но так как её обычно формируют крупные ионы, то в пустотах могут располагаться мелкие ионы других атомов структуры. а, б - плотные шаровые слои в - двуслойная гексогональная ПШУ (…АВАВАВ…), кристаллы Mg, Be, Ru и Os г - трехслойная кубическая ПШУ (…АВСАВСАВС…), кристаллы Cu, Ag, Au, Ni д - объемноцентрированная кубическая кладка, кристаллы a-Fe, Na, К, Ba, Nb, Та е - простая кубическая кладка ж - стуктура Na. Cl c плотнейшей упаковкой ионов Cl-, где ионы Na+ сидят в октаэдрических пустотах

Типы межатомной связи и классификация твердых тел Атомные кристаллы. Чаще всего органические. Образуются элементами Типы межатомной связи и классификация твердых тел Атомные кристаллы. Чаще всего органические. Образуются элементами IV и V групп таблицы Менделеева: Обладают высокой прочностью и имеют высокие точки плавления и сублимации (алмаз, графит). Основная связь в них ковалентная. Она образуется атомами с близкими электроотрицательностями (χ), при этом их валентные электроны создают общее электронное облако – молекулярную орбиталь. Энергия такой связи называется обменной энергией. В ковалентной связи может быть не только 2, но и 4, и 6 электронов, образующих т. н. π-связи. Из-за сильной поляризации молекул может возникнуть и водородная связь (с участием атомов F, O, N, реже Cl, Br, S)

Типы межатомной связи и классификация твердых тел Ионные кристаллы. Чаще всего неорганические. Образуется между Типы межатомной связи и классификация твердых тел Ионные кристаллы. Чаще всего неорганические. Образуется между металлами и галогенами. Ионная связь образуется за счёт перехода электрона от одного атома другому с более высокой χ. Силы взаимодействия между узлами почти кулоновские. Металлические кристаллы. Для металлической связи характерна ионазиция атомов и обобществление валентных электронов, которые беспорядочно, как молекулы газа, движутся по кристаллу (т. н. электронный газ). Молекулярные кристаллы. Связь в них осуществляется силами Ван-дер-Ваальса (остаточные межмолекулярные взаимодействия, слабее даже, чем водородная связь). Возникают между органическими молекулами с π-связью.

Жидкие кристаллы Обладают свойствами жидкостей (вязкость) и одновременно кристаллов (упорядочение молекул, анизотропия), существуют в Жидкие кристаллы Обладают свойствами жидкостей (вязкость) и одновременно кристаллов (упорядочение молекул, анизотропия), существуют в диапазоне ~10˚ Их молекулы имеют вытянутую или дискообразную форму и связаны слабыми Ван-дер-Ваальсовыми силами. нематическая фаза (ориентационный порядок) холестерическая фаза (слоистая структура) смектическая фаза (винтовая структура) Электрическое поле и температура сильно влияют на степень упорядоченности ЖК, поэтому их применяют в оптике для управления прозрачностью и в электротехнике для визуального нахождения горячих точек на микросхемах.

Поликристаллы и аморфные вещества Реальные твердые тела – это обычно поликристаллы: состоят из огромного Поликристаллы и аморфные вещества Реальные твердые тела – это обычно поликристаллы: состоят из огромного числа кристалликов, произвольно ориентированных и прочно сросшихся между собой. Рекристаллизация – изменение микроструктуры образца и переход его из монокристаллического в поликристаллическое состояние. стекло: Аморфные вещества – имеют ближний порядок (повторяется на расстояниях ~ межатомных), но не имеет дальнего порядка кристаллических структур.

Квазикристаллы Квазикристалл – твёрдое тело с симметрией, запрещённой в классической кристаллографии, и наличием дальнего Квазикристаллы Квазикристалл – твёрдое тело с симметрией, запрещённой в классической кристаллографии, и наличием дальнего порядка. Наряду с кристаллами обладает дискретной картиной дифракции, чем также отличается от аморфных тел. кристалл Ag-Al Диффракционная картина с точечной симметрией икосаэдра, невозможной в трёхмерной периодической решётке. Впервые наблюдались Данoм Шехтманом в быстроохлаждённом сплаве Al 6 Mn (названы «шехтманит» ), за что в 2011 году ему была присвоена Нобелевская премия.

Дефекты в кристаллах Дефектами кристалла называют нарушение идеальной периодичности его решётки. • Нульмерные (точечные) Дефекты в кристаллах Дефектами кристалла называют нарушение идеальной периодичности его решётки. • Нульмерные (точечные) дефекты: вакансия, межузлие (собственное, примесное), примесный атом замещения, дефекты Френкеля и Шоттки • Одномерные дефекты: скопление точечных дефектов цепочкой, краевые и винтовые дислокации • Двумерные дефекты: границы между участками кристалла, повёрнутыми относительно друга • Трёхмерные дефекты: поры, каналы и трещины в кристалле пузырьки газов, скопления примесей.

Дефекты в кристаллах Плотность дислокаций равна числу дислокационных линий, пересекающих единичную площадку поверхности кристалла. Дефекты в кристаллах Плотность дислокаций равна числу дислокационных линий, пересекающих единичную площадку поверхности кристалла. В наиболее совершенных кристаллах кремния и германия она равна 102 см‑ 2. Дефекты влияют на оптические свойства кристалла, его электропроводность, теплопроводность, поляризуемость, магнитные свойства и т. д. Подвижность дислокаций определяет пластичность кристалла, а их скопления вызывают появление внутренних напряжений и увеличивают хрупкость. Объёмные дефекты снижают пластичность и также влияют на прочность. Искусственное введение примесных атомов при закалке или старении позволяет улучшать физико-механические свойства металлов и сплавов (явления упрочнения). Избавиться от дислокаций и точечных дефектов помогают термический отжиг и метод зонной плавки. Ковка и прокатка, наоборот, генерируют многочисленные дислокации, по-разному ориентированные в пространстве, что затрудняет разрушение кристалла по сетке дислокаций. Прочность металла таким образом увеличивается, но снижается пластичность.

Рост кристаллов Зародыши кристалла возникают вокруг примесей в пересыщенном растворе, пылинок, неровностей на стенках. Рост кристаллов Зародыши кристалла возникают вокруг примесей в пересыщенном растворе, пылинок, неровностей на стенках. Дальше они растут вследствие диффузии атомов из окружающей среды: каждый атом «ищет» более удобное место для осаждения, то есть положение с наименьшей поверхностной энергией и максимальным числом молекулярных связей. Рост зерен происходит до их столкновения друг с другом, затем они начинают "высасывать" друга. Быстрее всего растут грани с минимальным расстоянием между атомными слоями. Кристалл предпочитает расти по дислокациям (винтовым). Типы технологического роста кристалллов: • Рост из раствора за счёт охлаждения/испарения/разницы температур в сосуде • Рост за счёт химической реакции в растворе: ACраст + BDраст = АВтв + CDраст • Рост из расплава (так растят металлы, полупроводники, оксиды, галогениды) • Рост из раствора в расплаве • Рост из газовой фазы (обеспечивает высокую чистоту и совершенство структуры)

Деформационные свойства кристаллических тел Развитие остаточной деформации в кристалле под воздействием сдвигающей силы: б) Деформационные свойства кристаллических тел Развитие остаточной деформации в кристалле под воздействием сдвигающей силы: б) упругая деформация, в) пластический сдвиг, г) остаточная деформация. Основной механизм пластического течения кристаллов – сдвигообразование: осуществляется посредством зарождения и перемещения дефектов-дислокаций.

Диффузия в твёрдых телах Гетеродиффузия – диффузия чужеродных атомов в кристаллической решётке, может протекать Диффузия в твёрдых телах Гетеродиффузия – диффузия чужеродных атомов в кристаллической решётке, может протекать как по вакансиям, так и по междоузлиям. Процесс диффузии описывается двумя законами Фика: 1. Плотность диффузионного потока примеси J пропорциональна градиенту (скорости падения) концентрации примеси (d. N/dx): D – коэффициент диффузии, константа вещества: равна количеству вещества, проходящего в единицу времени через участок единичной площади при градиенте концентрации, равном единице (т. е. изменение 1 моль/л → 0 моль/л на единицу длины). 2. Скорость изменения концентрации с течением времени (d. N/dt), зависит от градиента потока частиц (d. J/dx): Если D не зависит от x (вещество однородно), то:

Диффузия в твёрдых телах (для решётки Si) время а) Диффузия из источника с постоянной Диффузия в твёрдых телах (для решётки Si) время а) Диффузия из источника с постоянной поверхностной концентрацией б) Диффузия из тонкого слоя с фиксированным количеством примеси Коэффициент диффузии D экспоненциально зависит от температуры вещества, резко увеличиваясь с её ростом: Q – энергия активации процесса диффузии, R — универсальная газовая постоянная В полулогарифмических координатах lg. D(1/Т) зависимость D(T)выражается прямой.