Скачать презентацию Физика реального кристалла 4 Диффузия в кристаллах Диффузия Скачать презентацию Физика реального кристалла 4 Диффузия в кристаллах Диффузия

Ostr_FRCr_17_4.ppt

  • Количество слайдов: 54

Физика реального кристалла 4. Диффузия в кристаллах. Диффузия носителей заряда в полупроводниках. Профессор Б. Физика реального кристалла 4. Диффузия в кристаллах. Диффузия носителей заряда в полупроводниках. Профессор Б. И. Островский ostr@cea. ru

Диффузия в кристаллах Диффузия углерода в железо! Диффузия в кристаллах Диффузия углерода в железо!

Полупроводниковая гетероструктура - LED (необходимость контроля диффузии!) Диффузия становится проблемой при высоких температурах diffusion Полупроводниковая гетероструктура - LED (необходимость контроля диффузии!) Диффузия становится проблемой при высоких температурах diffusion always important for processes at elevated temperatures, such as: - ordering and disordering processes in alloys (formation of precipitation) - doping of semiconductors - defect annealing after plastic deformation and ion implantation - layer growth at surfaces, … Ионная имплантация

Пример «открытых» систем! Пример «открытых» систем!

Почему происходит диффузия? permeable barrier S = k. B ln - число способов, которым Почему происходит диффузия? permeable barrier S = k. B ln - число способов, которым может быть реализовано данное состояние

Понятие химического потенциала (системы с переменным числом частиц) Первое начало термодинамики для систем с Понятие химического потенциала (системы с переменным числом частиц) Первое начало термодинамики для систем с переменным числом частиц

Связь химического потенциала с вариациями свободной энергии и энтропии F = U - TS Связь химического потенциала с вариациями свободной энергии и энтропии F = U - TS d. F = - Sd. T - pd. V + i d. Ni i = ( F/ Ni)T, V, Nj i d. S = (1/T)d. U + (p/T)d. V - ( i /T)d. Ni i /T = - ( S/ Ni)U, V, Nj i

Движущая сила диффузии - разность химических потенциалов NA + NВ = N = const Движущая сила диффузии - разность химических потенциалов NA + NВ = N = const d. NA = - d. NB Атомы не взаимодействуют друг с другом, d. S = 0 поэтому условие равновесия: Максимум энтропии d. S = ( SA/ NA)d. NA + ( SB/ NB)d. NB = 0 d. S = ( B/TB - A /TA ) d. NA = 0 ; A = B T A = TB = T d. NA<0; A > B ; d. S>0

Движущая сила диффузии (1) Рассмотрим ситуацию, когда в одной половинке кристалла часть атомов заменили Движущая сила диффузии (1) Рассмотрим ситуацию, когда в одной половинке кристалла часть атомов заменили на их изотопы - меченные атомы. Заметим при этом, что помеченные атомы, конценрация которых C << 1 изотопами. Поэтому F = U TS = k. BT N [clnc + (1 c)ln(1 c)] Энтропия смешения C << 1 F = - d /dx = - (k. BT)(1/с)dc/dx Знак (-) означает, что сила стремится уменьшить градиент концентрации

Движущая сила диффузии (2) При действии внешней силы F на частицы, участвующие в беспорядочном Движущая сила диффузии (2) При действии внешней силы F на частицы, участвующие в беспорядочном тепловом движении, появляется постоянная составляющая скорости. Эту составляющую называют дрейфовой скоростью v. v = p F, В первом приближении: p так называемая подвижность частиц Поток частиц j , вызванный силой F, равен произведению дрейфовой скорости V и концентрации c диффундирующих частиц: j = Vc j = p. Fc = - k. BT p dc/dx Соотношение Эйнштейна: В итоге имеем: Закон диффузии, D p K B T = D j = - D dc/dx - коэффициент диффузии

Феноменологическое описание диффузии Феноменологическое описание диффузии

Диффузия в кристаллах C C (dс/dx) Диффузия в кристаллах C C (dс/dx)

Диффузия углерода в железе Диффузия углерода в железе

Уравнение диффузии J = - Dgrad C = - D(dс/dx) dc/dt = - div Уравнение диффузии J = - Dgrad C = - D(dс/dx) dc/dt = - div j = - dj/dx - химический анализ; - изотопный метод (метод меченных атомов)

сохранение полного кол-ва вещества сохранение полного кол-ва вещества

х Ldiff (Dt)1/2 х Ldiff (Dt)1/2

Диффузия носителей заряда в полупроводниках Короткая вспышка Концентрация неосновных носителей заряда возрастает на порядки Диффузия носителей заряда в полупроводниках Короткая вспышка Концентрация неосновных носителей заряда возрастает на порядки

с0 с0

Время выравнивания, длина распространения (размерные соображения) t L 2/D Время выравнивания, длина распространения (размерные соображения) t L 2/D

L t 1/2 L t 1/2

Разновидности диффузии в кристаллах Разновидности диффузии в кристаллах

Явление -невидимка Явление -невидимка

Гетеродиффузия D = D 0 e ED / k. T Гетеродиффузия D = D 0 e ED / k. T

Слайд 32 Слайд 32

Механизмы диффузии в кристаллах Основной механизм диффузии! Для атомов малого размера, типа H, C Механизмы диффузии в кристаллах Основной механизм диффузии! Для атомов малого размера, типа H, C

Образование пор как результат взаимной диффузии Поры - скопления вакансий Образование пор как результат взаимной диффузии Поры - скопления вакансий

Взаимная диффузия Взаимная диффузия

Эффект Киркендалла Эффект Киркендалла

Межузельная диффузия водорода в металлах Сколько времени понадобится водороду, чтобы протечь через стенку? t Межузельная диффузия водорода в металлах Сколько времени понадобится водороду, чтобы протечь через стенку? t L 2/D =?

Межузельная диффузия в металлах Межузельная диффузия в металлах

Микроскопические (атомные) подходы к описанию диффузии Микроскопические (атомные) подходы к описанию диффузии

E D 1013 c-1 E D 1013 c-1

Определение частоты перескоков при диффузии В соответствии с принципом Больцмана w. C/w. A = Определение частоты перескоков при диффузии В соответствии с принципом Больцмана w. C/w. A = e E / k. BT ; n. C/n. A = e E / k. BT где w 1 и w 2 вероятности пребывания атомов в состоянии А и С, соответственно, n. C и n. A – населенности соответствующих уровней n. C = t ; n. A = 0 t - число перескоков в единицу времени = 0 e E / k. BT 0 = vзв/a = (3. 103 м/сек)/3. 10 -10 м 1013 гц 0 D

Дисперсионные кривые для нормальных колебаний решетки = vзвk; k = 2 / ; = Дисперсионные кривые для нормальных колебаний решетки = vзвk; k = 2 / ; = 2 = vзв/a

Оценки частоты перескоков при диффузии 0 1013 c-1 = 0 exp( E / k. Оценки частоты перескоков при диффузии 0 1013 c-1 = 0 exp( E / k. BT) k. B T = 1. 4 10 -16 эрг/К 300 К = 4. 2 10 -14 эрг 2. 6 10 -2 эв E = 0. 75 эв; e -30 При комнатной температуре 1 прыжок в секунду 10 -13 Вблизи температуры плавления: k. B T = 1. 4 10 -16 эрг/К 1200 К 0. 1 эв E = 0. 75 эв; e -7. 5 5 x 10 -4 5 x 109 прыжков в секунду !

Броуновское движение Броуновское движение

<x 2> ~ Dt ~ Dt

Броуновское движение (случайные блуждания на периодической решетке) r Вектор r, соединяющий начальное и конечное Броуновское движение (случайные блуждания на периодической решетке) r Вектор r, соединяющий начальное и конечное положение частицы, равен сумме N векторов, отвечающих отдельным шагам r = a 1 + a 2 +. . . . a. N = an Среднеквадратичное значение r равно: = = an 2 = Na 2 = R 02 так как ориентации различных векторов an совершенно не коррелируют = 0; = a 2, n=m; = 0, n m Траектория случайного блуждания имеет характерный размер R 0 = N 1/2 a R 0 2 = N a 2 = a 2 t = D t N = t ; D = a 2 (D - коэффициент диффузии броуновской частицы; t - время; - частота перескоков)

Задача Образец алюминия резко охлаждают от высокой температуры до 300 К. Определите среднее время Задача Образец алюминия резко охлаждают от высокой температуры до 300 К. Определите среднее время жизни избыточных вакансии, предполагая, что вакансия аннигилирует, когда атом ее заполняет. Энергия самодиффузии атома составляет 1. 5 э. В. Энергия образования вакансий в Al равна 0. 75 э. В. Атомы колеблются относительно своих равновесных положений с частотой 1013 гц. Предполагается, что каждая вакансия отходит в среднем на 300 нм от своего исходного положения. Атомное расстояние в Al составляет 0. 29 нм. (Учесть, что диффузия осуществляется в процессе случайного блуждания, при котором пройденное расстояние пропорционально (числу прыжков)1/2. )

Как далеко может зайти пьяный? Броуновское движение: <x> Vt; <x 2> = Dt , Как далеко может зайти пьяный? Броуновское движение: Vt; = Dt , где D коэффициент диффузии Броуновской частицы. W exp( -r 2/2 Dt) - вероятность для частицы отойти на расстояние r от начального положения за время t , отсюда и следует, что = Dt Микроскопическая модель диффузии под действием внешних сил F = - d /dx = - (k. BT)(1/с)dc/dx В отличие от Броуновского движения здесь силы носят не стохастический характер, а направлены против градиента концентрации - имеется дрейфовая скорость

Таким образом, D = a 2 В итоге имеем для коэффициента диффузии: D = Таким образом, D = a 2 В итоге имеем для коэффициента диффузии: D = za 2 0 e E / k. BT 0 D

Соотношение Эйнштейна (1) p = v/ F p K B T = D Соотношение Эйнштейна (1) p = v/ F p K B T = D

Соотношение Эйнштейна (2) E + Fa/2 E - Fa/2 F E = 0 e Соотношение Эйнштейна (2) E + Fa/2 E - Fa/2 F E = 0 e E / k. T(e Fa/ 2 k. T - e Fa/2 k. T) v = a = p = v/ F a 2 F/k Fa << k. BT BT; p = a 2/KBT ; p KBT = a 2= D ex 1 + x

Коэффициент диффузии и его температурная зависимость в случае вакансионного механизма D=c D ; D Коэффициент диффузии и его температурная зависимость в случае вакансионного механизма D=c D ; D = D e ED / k. T v 0 D = za 2 0 e E / k. T cv = n/N = e Evac / k. T D = 0 za 2 e (Evac + E )/ k. T Величину ED, характеризующую зависимость коэффициента диффузии от температуры при вакансионном механизме нельзя отождествлять с энергетическим барьером перескока. Частота переходов атомов определяется произведением вероятностей двух событий: появления вакансии и обмена местами в паре вакансия - атом. Поэтому ED и является суммой двух величин: энергии образования вакансии и энергии активации перескока ED= Evac + E

Соотношение между ED и Тпл Соотношение между ED и Тпл

Поверхностная диффузия. Использование техники СТМ Поверхностная диффузия. Использование техники СТМ

Поверхностная диффузия Поверхностная диффузия

адатомы! адатомы!

Использование СТМ для изучения поверхностной диффузии Использование СТМ для изучения поверхностной диффузии

Определение положения атомов на поверхности в реальном масштабе времени Определение положения атомов на поверхности в реальном масштабе времени