Электронная литография и анизотропное плазмохимическое травление Пределы оптической

Электронная литография и анизотропное плазмохимическое травление
Пределы оптической литографии Разрешение оптической литографии определяется ролью дифракции Для ультрафиолета длина волны ~100
Электронная литография Двумерный электронный газ Электронный резист E-beam Проявитель Анизотропное плазмохимическое травление Удалитель резиста
Литография взрывом
Рассеяние электронов в резисте
Скачать презентацию Электронная литография и анизотропное плазмохимическое травление Пределы оптической Скачать презентацию Электронная литография и анизотропное плазмохимическое травление Пределы оптической

396-elektronnaya_litografiya_ebl_rie.ppt

  • Количество слайдов: 6

>Электронная литография и анизотропное плазмохимическое травление Электронная литография и анизотропное плазмохимическое травление

>Пределы оптической литографии Разрешение оптической литографии определяется ролью дифракции Для ультрафиолета длина волны ~100 Пределы оптической литографии Разрешение оптической литографии определяется ролью дифракции Для ультрафиолета длина волны ~100 нм Реальное разрешение оптической литографии порядка нескольких микрон Для электронов длина волны существенно меньше (для 100 кэВ 3*10^-12 м)

>Электронная литография Двумерный электронный газ Электронный резист E-beam Проявитель Анизотропное плазмохимическое травление Удалитель резиста Электронная литография Двумерный электронный газ Электронный резист E-beam Проявитель Анизотропное плазмохимическое травление Удалитель резиста (ДМФА)

>Литография взрывом Литография взрывом

>

>Рассеяние электронов в резисте Рассеяние электронов в резисте